国产光刻机最新进展2021

　　目前，融易资讯网（www.ironge.com.cn）消息 ，我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。

　　上海微电子也是在今年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。

　　众多周知，中芯国际目前正在积极的对28纳米芯片进行扩产，然而对于国内而言28纳米也是刚需，并且产能也十分紧缺，但不管怎样，上海微电子28纳米光刻机的落地，将会大大缩短了国产化28纳米的时间。